В лаборатории физического материаловедения Федерального государственного бюджетного учреждения науки Института физического материаловедения Сибирского отделения Российской академии наук (ИФМ СО РАН) введено в эксплуатацию оборудование УЭЛТ-50/200 (установка электронно-лучевой обработки). Установка создана в Институте ядерной физики имени Г.И. Будкера СО РАН (ИЯФ СО РАН) и предназначена для решения широкого круга научных и прикладных задач современного материаловедения.
Установка представляет собой мощный технологический комплекс с электронно-оптической колонной и электронно-лучевой пушкой. Ускоряющее напряжение 50 кВ при максимальном токе пучка до 200 мА. Среди ключевых особенностей — система магнитной фокусировки и отклонения пучка электронов, позволяющая управлять пучком в телесном угле до ±7 градусов, в режиме импульсной модуляции и параллельного переноса пучка в пределах ±10 мм. Научные сотрудники ИФМ СО РАН предварительно прошли обучение и подготовку в ИЯФ СО РАН. Совместно, учёные и инженеры ИЯФ СО РАН и ИФМ СО РАН, смонтировали, ввели в эксплуатацию, проверили работу всех систем в штатных режимах генерации электронного пучка и выполнили обработку тестовых образцов ускоренным пучком электронов. Внедрение установки открыло новые возможности для исследователей ИФМ СО РАН в области создания перспективных материалов, модификации поверхностных свойств изделий и разработке новых технологических процессов электронно-лучевой обработки.
